电子级氢fu酸精馏塔，用亚沸低温汽化工艺，无沸腾雾沫夹带截留重金属杂质。配套负压温控、氮气密闭保护与全自动系统，可稳定产出 SEMI G3-G5 级氢fu酸，杂质含量可达 ppt 级，广泛用于半导体晶圆蚀刻、优良制程清洗工序。

简介：

电子级氢fu酸精馏塔是专为超高纯氢fu酸精制打造的强腐蚀适配精馏设备，全过流部件采用高纯 PFA、改性聚四氟乙烯材质，无金属接触杜绝离子析出，采用亚沸低温汽化工艺，无沸腾雾沫夹带截留重金属杂质。配套负压温控、氮气密闭保护与全自动系统，可稳定产出 SEMI G3-G5 级氢fu酸，杂质含量可达 ppt 级，广泛用于半导体晶圆蚀刻、优良制程清洗工序。

详细介绍：

电子级氢fu酸精馏塔是专为半导体级超高纯氢fu酸精制打造的强腐蚀适配特种精馏设备，氢fu酸腐蚀性强，可腐蚀金属、石英等绝大多数材质，普通精馏塔无法适配，该设备从选材到工艺全链路针对氢fu酸特性定制，是生产 SEMI G3-G5 级电子级氢fu酸的核心装备。

设备所有接触氢fu酸、酸蒸汽的过流部件全部采用高纯模压 PFA、改性 PTFE 氟塑料一体成型，全程无金属、无石英构件，杜绝材质腐蚀析出氟化物、金属离子污染成品。工艺采用亚沸低温表层汽化方案，精准控制温度低于氢fu酸沸点，全程无沸腾鼓泡、无雾沫飞溅，从根源消除气溶胶裹挟重金属、微颗粒杂质的问题；配套高真空负压系统，进一步将汽化温度降至 40℃以下，避免氢fu酸高温分解产生杂质，搭配全程氮气惰性密封回路，隔绝空气中水汽、粉尘造成二次污染。设备搭载高精度 PID 温控、多级密闭冷凝、可调回流比系统，全自动完成进料、恒精度采出、残液排放，出厂前经过严苛的耐腐密封性、杂质截留效果全项检测。

电子级氢fu酸 精馏塔提纯精度远高于普通防腐精馏设备，单塔运行即可产出 G3 级（金属杂质≤1ppb）氢fu酸，多塔串联可稳定达到 G4、G5 级（ppt 级）超高纯标准，满足优良制程晶圆蚀刻、清洗的严苛要求。可定制实验室小试机型、中试机型、百吨级工业化量产塔，广泛应用于电子湿化学品厂、半导体材料企业，可提供完整的纯度检测报告与耐腐质保，是电子级氢fu酸量产不可替代的专用精制装备。