G3/G4/G5 级电子化学品精馏塔，目前广泛应用于半导体湿电子化工厂、电子材料企业，可提供完整的纯度合规资质，满足半导体厂商供应商准入审核要求，是电子化学品量产的刚需装备。

简介：

G3/G4/G5 级电子化学品精馏塔是适配 SEMI 高纯等级标准的专用精制设备，全过流采用高纯石英、PFA 无金属结构，杜绝离子析出，可适配亚沸低温汽化或精密精馏工艺，精准截留重金属离子与微颗粒杂质。配套分区温控、负压惰性保护与全自动控制系统，可稳定产出对应等级的高纯酸、电子醇、光刻溶剂，杂质含量覆盖 ppb 至 ppt 级，广泛用于优良制程晶圆清洗、半导体湿电子化学品量产。

详细介绍：

G3/G4/G5 级电子化学品精馏塔是对标 SEMI 国际半导体高纯等级标准打造的分级精制专用设备，其中 G3 对应金属杂质≤1ppb、G4≤0.1ppb、G5≤0.01ppb（ppt 级），是覆盖中到优良制程半导体湿电子化学品生产的核心工艺装备，解决了普通精馏塔无法稳定达标超高纯等级的痛点。

设备从选材到工艺全链路匹配不同等级纯度要求：所有接触物料的过流部件全部采用高纯熔融石英、食品级模压 PFA/PTFE 氟塑料，全程无不锈钢、碳钢等金属构件，从根源杜绝重金属离子析出污染。工艺路线分级适配：G3 级可采用精密四氟填料精馏 + 亚沸辅助汽化工艺，兼顾产能与提纯精度，适配大规模量产；G4/G5 级必须采用全流程亚沸低温表层汽化工艺，全程无沸腾鼓泡、无雾沫飞溅，从根源消除气溶胶夹带超痕量杂质的问题，搭配多级可调回流结构强化汽液传质，金属杂质去除率可达 99.999% 以上。设备标配分区高精度 PID 温控（精度 ±0.5℃）、多级密闭水冷冷凝、负压真空机组与全程氮气惰性保护系统，搭载全自动控制系统实现连续进料、恒精度采出、自动排残，出厂前全部按对应等级完成金属杂质、微颗粒含量全项检测，出具合规检测报告。

G3/G4/G5  级电子化学品精馏塔可根据产能与纯度需求灵活选型：G3 级机型适配 28nm 以上成熟制程晶圆清洗试剂、光伏高纯蚀刻液量产，单塔产能更高、运维成本更低；G4/G5 级机型适配 7nm 以下优良制程光刻配套溶剂、超高纯氢fu酸 / 硝酸生产，可通过多塔串联进一步提升纯度稳定性。目前广泛应用于半导体湿电子化工厂、电子材料企业，可提供完整的纯度合规资质，满足半导体厂商供应商准入审核要求，是电子化学品量产的刚需装备。