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低离子析出电子级精馏塔
产品简介

低离子析出电子级精馏塔,配套精准温控、密闭惰性保护系统,可稳定产出 SEMI G3-G5 级高纯介质,广泛用于电子级酸、醇、光刻溶剂精制,满足优良制程半导体生产严苛纯度要求。

产品型号:
更新时间:2026-07-24
厂商性质:生产厂家
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简介:

低离子析出电子级精馏塔是专为超高纯电子化学品精制打造的低污染特种分离设备,全过流采用高纯 PFA、熔融石英无金属材质,从根源杜绝金属、非金属离子析出,适配亚沸低温汽化或精密精馏工艺,无雾沫夹带截留微颗粒杂质。配套精准温控、密闭惰性保护系统,可稳定产出 SEMI G3-G5 级高纯介质,广泛用于电子级酸、醇、光刻溶剂精制,满足优良制程半导体生产严苛纯度要求。

详细介绍:

低离子析出电子级精馏塔是针对电子化学品生产中离子污染痛点打造的专用精制设备,普通精馏塔的金属内衬、拼接缝隙会持续析出金属、非金属离子,无法满足优良制程半导体对介质离子含量的严苛要求,该设备从选材、工艺到结构全链路控制离子析出,是生产超高纯电子湿化学品的核心装备。

设备从三大维度实现极低离子析出:一是材质控制,所有接触物料、蒸汽的过流部件全部采用电子级高纯模压 PFA、高纯度熔融石英,无任何不锈钢、碳钢等金属构件,选用低析出等级的高纯原材料,从根源杜绝材质本身的离子溶出;二是工艺控制,采用亚沸低温表层汽化工艺,全程控制温度低于物料沸点,无沸腾鼓泡,既避免雾沫裹挟杂质,也通过低温工况大幅降低材质的离子析出速率;三是结构控制,采用一体成型无缝工艺,无粘接缝隙、wu死角,避免物料残留滋生杂质析出,配套全程氮气惰性密封回路,隔绝外界空气、粉尘带入离子污染。设备搭载高精度 PID 温控、多级密闭冷凝、可调回流比系统,可配套负压真空机组进一步降低汽化温度,全自动控制系统实现全流程无人值守,减少人工介入带来的外源污染。

低离子析出 电子级精馏塔的离子析出总量可控制在 ppt 级别,单塔运行即可稳定产出 SEMI G3 级(金属离子≤1ppb)高纯介质,多塔串联可达到 G4、G5 级超高纯标准,适配电子级氢fu酸、硝酸、异丙醇、光刻配套溶剂等各类强腐蚀、热敏电子化学品精制。可定制实验室小试、中试、工业化量产全规格机型,广泛应用于半导体晶圆清洗、优良制程蚀刻液生产领域,出厂前经过离子析出量、密封性全项检测,可提供完整的纯度检测报告,满足电子化学品生产的严苛要求。



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