优良制程半导体试剂精馏设备，可定制从实验室研发小试到年产百吨级量产线的全规格机型，所有设备出厂前经过超净环境下的全流程纯度验证，可提供完整的第三方纯度检测报告，满足优良制程芯片厂商极其严苛的供应商准入要求，是优良制程芯片量产不可少的核心配套装备。

简介：

优良制程半导体试剂精馏设备是专为 7nm 及以下芯片制程配套超高纯试剂打造的专用精制装备，全过流采用电子级 PFA / 高纯石英无金属结构，离子析出达 ppt 级，采用亚沸低温多级精馏工艺，无雾沫夹带截留超痕量杂质，配套高精度温控与惰性保护系统，可稳定产出 SEMI G4-G5 级高纯酸、蚀刻液、光刻溶剂，满足优良制程芯片生产的较好纯度要求。

详细介绍：

优良制程半导体试剂精馏设备是 7nm 及以下优良制程芯片生产的核心配套精制装备，优良制程芯片的线宽极窄，试剂中痕量的金属离子、微颗粒就会导致晶圆短路、良率大幅下降，要求试剂杂质控制在 ppt 级别，普通精馏设备无法满足该较好纯度要求，该设备从材质、工艺到控制全链路对标优良制程的严苛标准打造。

整套设备针对较好纯度要求做专属优化：材质上采用超纯等级的电子级 PFA 或高纯熔融石英，所有过流部件无任何金属接触，离子析出量控制在 1ppt 以下，从根源杜绝材质本身的污染；工艺上采用多级亚沸低温精馏串联方案，全程控制温度低于物料沸点 0.5~1℃，全程无沸腾鼓泡、无雾沫飞溅，超痕量重金属、微颗粒杂质截留率达 99.999% 以上，从工艺根源消除气溶胶夹带杂质的问题；配套 ±0.1℃高精度温控系统、高真空负压单元、全程正压氮气惰性保护系统，隔绝外界空气、粉尘、水汽的外源污染；搭载高精度在线离子监测系统，实时监控馏分纯度，自动切割采出，不合格馏分自动回流重蒸。

优良制程 半导体试剂精馏设备可稳定产出 SEMI G4、G5 级超高纯试剂，金属杂质含量≤0.01ppb（ppt 级），满足 7nm、3nm 甚至更优良制程的晶圆清洗、蚀刻、光刻工艺要求。可定制从实验室研发小试到年产百吨级量产线的全规格机型，所有设备出厂前经过超净环境下的全流程纯度验证，可提供完整的第三方纯度检测报告，满足优良制程芯片厂商极其严苛的供应商准入要求，是优良制程芯片量产不可少的核心配套装备。