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一体化精馏吸附过滤纯化成套设备
产品简介

一体化精馏吸附过滤纯化成套设备是适配半导体湿电子化学品精制加工的集成式专用装备,整合精馏、吸附、过滤多重纯化工艺于一体,打破传统分体设备工序繁琐、纯度不足的弊端。设备可高效脱除化学品中痕量金属离子、超细颗粒物、有机杂质及微量水分,工艺集成度高、纯化精度优异,支持自动化连续作业,能耗低、无二次污染,可适配多规格半导体湿电子化学品提纯生产,满足芯片制程的超净高纯用料需求。

产品型号:
更新时间:2026-07-19
厂商性质:生产厂家
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在半导体芯片制造产业高速发展的当下,优良制程对湿电子化学品的纯度、洁净度及批次稳定性要求持续升级,晶圆清洗、蚀刻、光刻等核心工序,均依赖高品质超净高纯化学品,传统单一精馏、单一过滤设备工艺单一、杂质脱除维度有限,分体式设备还存在管路污染、工序衔接误差、占地面积大等诸多问题,难以适配规模化、高精度纯化生产需求。一体化精馏吸附过滤纯化成套设备针对性整合多项核心纯化技术,摒弃传统分体式设备的设计弊端,将精馏提纯、定向吸附、精密过滤三大核心工序集成一体化,构建全闭环、多层次、递进式的纯化体系,适配各类半导体湿电子化学品的精细化、高纯度量产加工。
该设备搭载的多级复合纯化工艺体系,实现精馏分层除杂、吸附定向脱痕、过滤拦截净化的协同作业,弥补了单一工艺的纯化短板。其中精密精馏单元可依据物料沸点差异,分离化学品中的水分、轻组分有机物及大分子杂质;定向吸附单元采用专用高纯吸附介质,精准捕捉常规工艺难以去除的ppt级、ppb级痕量金属离子,从根源降低杂质含量;高精度微滤单元可逐级拦截纳米级超细颗粒物,优化化学品洁净度。设备可根据不同品类原料的杂质成分、初始纯度差异,智能匹配工艺参数,相较于传统分体设备,杂质综合脱除效率大幅提升,成品纯度稳定性显著优化,有效规避杂质残留引发的晶圆缺陷、蚀刻偏差等生产问题,适配多代次芯片制程生产标准。
设备搭载智能自动化控制系统,集成实时水质监测、杂质在线检测、数据自动记录与异常报警功能,全程实现无人值守式稳定运行,有效规避人工操作带来的误差与二次污染风险。系统可根据不同品类、不同初始纯度的湿电子化学品,自动匹配提纯工艺参数,兼容性强,可适配双氧水、氨水、硫酸、光刻胶溶剂等数十种半导体常用湿电子化学品的提纯加工,无需大规模改造设备结构,即可快速切换产品类,大幅提升产线柔性化生产能力。
在结构设计与运行性能方面,一体化精馏吸附过滤纯化成套设备采用模块化集成一体式结构,将所有纯化单元、输送管路、监测系统闭环整合,大幅缩减设备占地面积,简化安装调试流程,适配半导体无尘车间布局规范。设备所有介质接触部件均采用高纯防腐惰性材质,耐腐蚀、无析出、无污染,杜绝设备本体带来的二次污染,保障化学品纯化全程洁净。设备搭载全自动智能控制系统,集成在线杂质检测、实时参数调控、数据留存、异常预警等功能,全程无人值守连续运行,有效规避人工操作误差,保障每批次产品品质高度统一。

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