在半导体芯片制造产业高速发展的当下,优良制程对湿电子化学品的纯度、洁净度及批次稳定性要求持续升级,晶圆清洗、蚀刻、光刻等核心工序,均依赖高品质超净高纯化学品,传统单一精馏、单一过滤设备工艺单一、杂质脱除维度有限,分体式设备还存在管路污染、工序衔接误差、占地面积大等诸多问题,难以适配规模化、高精度纯化生产需求。一体化精馏吸附过滤纯化成套设备针对性整合多项核心纯化技术,摒弃传统分体式设备的设计弊端,将精馏提纯、定向吸附、精密过滤三大核心工序集成一体化,构建全闭环、多层次、递进式的纯化体系,适配各类半导体湿电子化学品的精细化、高纯度量产加工。
该设备搭载的多级复合纯化工艺体系,实现精馏分层除杂、吸附定向脱痕、过滤拦截净化的协同作业,弥补了单一工艺的纯化短板。其中精密精馏单元可依据物料沸点差异,分离化学品中的水分、轻组分有机物及大分子杂质;定向吸附单元采用专用高纯吸附介质,精准捕捉常规工艺难以去除的ppt级、ppb级痕量金属离子,从根源降低杂质含量;高精度微滤单元可逐级拦截纳米级超细颗粒物,优化化学品洁净度。设备可根据不同品类原料的杂质成分、初始纯度差异,智能匹配工艺参数,相较于传统分体设备,杂质综合脱除效率大幅提升,成品纯度稳定性显著优化,有效规避杂质残留引发的晶圆缺陷、蚀刻偏差等生产问题,适配多代次芯片制程生产标准。
设备搭载智能自动化控制系统,集成实时水质监测、杂质在线检测、数据自动记录与异常报警功能,全程实现无人值守式稳定运行,有效规避人工操作带来的误差与二次污染风险。系统可根据不同品类、不同初始纯度的湿电子化学品,自动匹配提纯工艺参数,兼容性强,可适配双氧水、氨水、硫酸、光刻胶溶剂等数十种半导体常用湿电子化学品的提纯加工,无需大规模改造设备结构,即可快速切换产品类,大幅提升产线柔性化生产能力。
在结构设计与运行性能方面,一体化精馏吸附过滤纯化成套设备采用模块化集成一体式结构,将所有纯化单元、输送管路、监测系统闭环整合,大幅缩减设备占地面积,简化安装调试流程,适配半导体无尘车间布局规范。设备所有介质接触部件均采用高纯防腐惰性材质,耐腐蚀、无析出、无污染,杜绝设备本体带来的二次污染,保障化学品纯化全程洁净。设备搭载全自动智能控制系统,集成在线杂质检测、实时参数调控、数据留存、异常预警等功能,全程无人值守连续运行,有效规避人工操作误差,保障每批次产品品质高度统一。
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